溅射沉积是一种物理气相沉积技术。是在高真空条件下，利用高能粒子，比如氩离子，轰击靶，使靶材颗粒从固体靶材料中喷出，在衬底材料或其他元件上形成薄膜。它是一种将金属或其他材料薄膜沉积在各种表面上的电子工艺。
我们提供各种高纯度溅射靶材，同时可以支持定制靶材。我们的靶材包括纯元素，化合物，合金，陶瓷，金属间化合物和混合物。我们为每个溅射靶都配有分析证书。同时，我们还提供内部溅射靶粘接和贵金属回收服务，可以避免客户造成材料的浪费。
我们的材料具有各种纯度，范围从99.9％到99.9999％，同时可以提供定制服务。
